日本合成アルコール

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製造方法概要

アルコール合成装置
合成装置では、原料のエチレンを圧縮機で約7MPaまで昇圧し反応塔へ供給されます。一方、純水は未反応の循環ガス(エチレン)とともに加熱炉で所定の温度(約250℃)まで昇温されて反応塔に供給されます。反応塔内にはシリカゲルに燐酸を含浸させた触媒が充填されており、エチレンと水がこの触媒によって、反応してアルコールが生成されます。
このアルコールは、ガス分離槽、循環ガス洗浄塔でガスと粗アルコールに分離され、ガスは未反応の循環ガスとして、循環されます。

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含水アルコールを製造する含水アルコール製造装置

含水アルコール精製装置
アルコール合成装置で生成された粗アルコールは、含水アルコール精製装置の抽出蒸留塔に送られ、副生成物であるエチルエーテルやアセトアルデヒドを除去した後、最終精製塔で95.3vol%以上まで濃縮します。最終精製塔から留出されたアルコールは、アルコール水添塔に送られ、ごく微量のアセトアルデヒドを水添させ、高品質の含水アルコールとなります。
抽出蒸留塔で分離された副生成物は、アルコール回収塔に送られてアコールと副生成物に分離され、アルコールは抽出蒸留塔へ返送され、副生成物は系外に除去されます。

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含水アルコール製造装置

無水アルコール製造装置
含水アルコールを原料とし、脱水剤(ノルマルペンタン)との共沸により水分を分離させて、純度の高い無水アルコール製品を製造します。

無水アルコール製造装置

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